Im Rahmen aktueller Forschungsarbeiten wurde ein im Hochvakuum betriebener Rohrofen angeschafft. Mit einer maximalen Betriebstemperatur von 1200 °C stellt der Gero Carbolite Rohrofen GHA 12/300 eine optimale Möglichkeit zum Einbrennen/Löten applizierter Aktivlotpasten dar. Aufgrund der oxidationsanfälligen Bestandteile der Lote wird der Ofen im Hochvakuum betrieben (erreichbare Enddrücke im Bereich von bis zu 10^-7 mbar). Dieses wird anhand eines Turbomolekularpumpstands HiPace80 des Herstellers Pfeiffer Vacuum erzielt. Weitere zukünftige Anwendungen der neuen Anlagentechnik reichen von thermischen Nachbehandlungen selektiv lasergeschmolzener Bauteile wie Tempern, Anlassen oder Lösungsglühen über das Sintern (Verdichten) von leitfähigen Tinten bis hin zu reduzierenden, thermischen Behandlungen in Formiergasströmen. Die Anlagentechnik findet somit technologieübergreifend Einsatz und erweitert den Anwendungsbereich des Lehrstuhls um Hochtemperaturbehandlungen bis hin zur Vakuumtechnik.

Weitere Anlagen des Forschungsbereichs Elektronikproduktion am Lehrstuhl FAPS sind unter Ausstattung Elektronikproduktion gelistet.

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