Ausgangssituation und Beschreibung

Lithographie ist ein zentrales Verfahren der modernen Mikro- und Nanostrukturierung und bildet die Grundlage zahlreicher Anwendungen in Mikroelektronik, Sensorik und photonischen Systemen. Neben etablierten optischen Lithographieverfahren wird zunehmend die Nutzung von Röntgenstrahlung als potenzieller Ansatz wieder interessanter, um hochauflösende Strukturierung zu ermöglichen und neue technologische Entwicklungsrichtungen zu erschließen.

Gleichzeitig ist der aktuelle Stand von Forschung und Technik zur röntgenbasierten Lithographie über verschiedene Disziplinen und Quellen verteilt. Viele Fragestellungen betreffen unter anderem physikalische Wirkmechanismen, Prozessvarianten, technische Voraussetzungen, Einschränkungen sowie potenzielle Anwendungsszenarien. Dadurch besteht Bedarf an einer strukturierten Aufarbeitung und Einordnung der vorhandenen Literatur.

Ziel des geplanten Projekts ist es, im Rahmen einer studentischen Abschlussarbeit (BA/PA) eine systematische Literaturarbeit zur Nutzung von Röntgenstrahlung in lithographischen Verfahren durchzuführen. Die Arbeit soll relevante wissenschaftliche und ggf. industrielle Quellen identifizieren, klassifizieren und gegenüberstellen. Auf dieser Basis sollen der Stand der Technik, zentrale Herausforderungen sowie Potenziale und Grenzen der Technologie herausgearbeitet und diskutiert und anhand eines möglichen Use-Cases ausgearbeitet werden.

Vorkenntnisse und Anforderungen

• sehr gute Deutsch- oder Englischkenntnisse

• selbstständige, strukturierte Arbeitsweise

• Erfahrung mit Literaturrecherche (wissenschaftliche und ggf. industrielle Quellen)

• Interesse an Lithographie, Mikro-/Nanofabrikation

• Fähigkeit zur strukturierten wissenschaftlichen Aufbereitung und Argumentation

Bewerbung

Bitte senden Sie Ihre aussagekräftigen Unterlagen (Lebenslauf und vollständige Notenübersicht) per E-Mail ein.

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