Jonas Schickel verstärkt seit dem 01.09.2025 den Forschungsbereich Elektronikproduktion als wissenschaftlicher Mitarbeiter.

Er absolvierte sein Masterstudium im Fach Materialwissenschaften an der Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg mit den Schwerpunkten in Allgemeinen Werkstoffeigenschaften, Glas und Keramik sowie Biomaterialien. Seine Masterarbeit fertigte er am Lehrstuhl für Allgemeine Werkstoffeigenschaften (WW1) der FAU an und beschäftigte sich mit dem Thema „Influence of Cr on Deformation Mechanisms and γ/γ′ Lattice Misfit of Co- and Ni-base Superalloys“.

Vor seiner Tätigkeit am Lehrstuhl war Herr Schickel am Fraunhofer IISB tätig, wo er sich mit der Entwicklung und Validierung ionenselektiver Sensoren beschäftigte.

Im Rahmen seiner Forschung am Lehrstuhl FAPS wird er sich künftig mit der Laserbearbeitung von Oberflächen in der Elektronikproduktion befassen. Der Fokus liegt dabei auf dem Reinigen von Lötstellen sowie der Oberflächenfunktionalisierung zur Prozessverbesserung und Optimierung elektronischer Baugruppen.

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