03.08.2023: Anlagenumbau der Plasma Coating Unit 3D abgeschlossen

Prozesskammer der PCU3D

Im Rahmen des Anlagenumbaus wurde die ursprüngliche Einhausung der Plasma Coating Unit durch eine hermetisch abgeriegelte Prozesskammer ersetzt. Dieses wurde von der Leoni AG dem Lehrstuhl über eine Spende bereitgestellt. Die bestehende Anlagentechnik wurde in der neuen Prozesskammer verbaut, Proben können nun über ein ergänzendes Schleusensystem in die Kammer eingeschleust werden. Das erhöhte Kammervolumen (ca. 3,5 m3) ermöglicht die direkte Integration der Anlagenperipherie). Aktuell wird die Plasmabeschichtungsanlage im Projekt FlaMe (Flexible angepasste Fertigung von Leistungsmodulen) zur Herstellung kupferbasierter thermo-mechanischer Buffer auf leistungselektronischen Halbleitern verwendet. Ergänzt wurde die Anlagentechnik zudem mit zwei Systemen zur Inline-Prozess-überwachung: eine Spektroskopieeinheit Plasus EMICON MC zur Prozesskontrolle und Plasmaüberwachung, sowie eine optische Kamera mit Spezialeinhausung.

 

 

 

Kontakt:

Manuela Ockel, M.Sc.

Wissenschaftliche Mitarbeiterin und Koordinatorin Technologiefeld Prozess- und Materialanalytik

Lehrstuhl für Fertigungsautomatisierung und Produktionssystematik
Elektronikproduktion